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品牌名稱：Optigraph GmbH
重要參數：
厚度：3 μm
面密度：0.672 mg/cm2
可制面積：數平方厘米級
鑲嵌角：極低(高取向度)
化學特性：高純、無毒、化學惰性
ptigraph 的 HOPG-Films 是厚度僅 3 μm(面密度 0.672 mg/cm2)的高定向熱解石墨薄膜，可做到數平方厘米面積。產品利用 HOPG-flex 工藝制成，具有以下特點：
高純度、高導電/導熱：碳雜質極低，可承受強熱負荷。
內應力極小：在極端條件下仍不易破裂，壽命長。
化學惰性、無毒：對實驗體系無干擾，可替代有毒的鈹窗。
主要用途
回旋加速器中的“剝離膜”，用于剝離加速粒子的電子 。
作為同步輻射或實驗室 X 射線源的透明窗口，尤其適用于原位/工況電池、超級電容器等儲能器件的測試腔體，可隔絕外界同時讓低能 X 射線透過 。
也可用作需要超薄、高導電石墨膜的科研或特殊光學場合。
得益于極低的鑲嵌角(高取向度)，該薄膜在 X 射線束線中散射損失小，是石墨光學元件的有益補充
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